Pulse Plating

Herausgegeben von Wolfgang E. G. Hansal und Sudipta Roy, 2012
Im Bereich der Galvanotechnik ist es unter Verwendung gepulster Ströme und somit durch «Pulse Plating» grundsätzlich möglich, sehr gezielt Schichten mit hochfunktionelle Oberflächeneigenschaften abzuscheiden. Allerdings stellt dieses eine wissensbasierte Technik dar, bei der optimale Ergebnisse nur bei sehr präziser Kenntnis der Elektrodenkinetik und des Stofftransportes im Elektrolyten erzielt werden können. Hier liefert das von führenden Fachleuten auf diesem Gebiet verfasste Buch das nötige Wissen und Rüstzeug. Aufbauend auf dem bisherigen Standardwerk aus den 1990er Jahren werden die heute verfügbaren Grundlagen und spezifische Anwendungen des Pulse Plating umfassend auf annähernd 400 Seiten in englischer Sprache dokumentiert. Bedeutende Entwicklungsgebiete werden für das Pulse Plating aus wässrigen wie auch ionischen Flüssigkeiten etwa in der Abscheidung von binären und ternären Legierungen, Dispersionsschichten, Gradienten- und Multilayer, nanokristallinen Materialien, in der selektiven Abscheidung, bei vielfältigen elektronischer Anwendungen, in der Hochgeschwindigkeitsabscheidung, beim Beschichten von Halbleitern (Elektronik, Solarzellen usw.), für anodische Prozesse (Oxidation, Machining, Elektropolitur) usw. gesehen. Nach zukunftsweisendem aber gleichzeitig auch kritischem Vorwort befasst sich das Buch in vier Kapiteln mit allen grundlegenden und für die industrielle Anwendung massgebenden Aspekten des Pulse Plating.
 

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