Bauteilesauberkeit – Anforderungen und Lösungen entwickeln sich weiter

 

 

 

Feinstreinigung in nasschemischen Prozessen
Entscheidend für die prozesssichere Erzielung der geforderten Sauberkeitsspezifikation ist bei nasschemischen Verfahren die optimale Anpassung von Chemie, Anlagen- und Verfahrenstechnik sowie Prozessauslegung an die jeweilige Aufgabenstellung. Dies führt unter anderem dazu, dass bei geometrisch komplexen Teilen Verfahren wie beispielsweise mehrfrequenter Ultraschall und zyklische Nukleation in Kombination eingesetzt werden. Um sehr hohe Anforderungen an die partikuläre und filmisch/organische Sauberkeit zu erfüllen, stehen auch Anlagen zur Verfügung, die einen nasschemischen Prozess mit einer Niederdruck-Plasmareinigung kombinieren.
Unabhängig davon, ob die Feinstreinigung in einer Reihentauch- oder Kammeranlage erfolgt, Tauchbecken beziehungsweise Kammer und Verrohrung sollten so ausgeführt sein, dass sich keine Schmutznester bilden und entfernte Verunreinigungen zuverlässig ausgetragen werden. Bei der Bereitstellung und Aufbereitung der Medien ist sicherzustellen, dass sie in der für die Reinheitsanforderung entsprechenden Qualität erfolgt, beispielsweise durch eine Reinstwasserversorgung.
Bei Anlagen für die nasschemische Reinigung ist eine Ausstattung für die kontinuierliche Kontrolle und Erfassung von Anlagen- und Prozessparametern häufig schon Standard. Messsysteme für die permanente Inline-Überwachung und Steuerung der Reinigungsbäder ermöglichen nicht nur die exakte Dokumentation der Zustände während der Reinigung, sondern auch die bedarfsgerechte, automatische Reinigernachdosierung. Durch Schnittstellen lassen sich alle erfassten Daten auch ein übergeordnetes MES übertragen. Eine neu entwickelte Lösung ermöglicht darüber hinaus die Messung der Eingangsverschmutzung, so dass der Reinigungsprozess entsprechend gestaltet werden kann beziehungsweise beim Überschreiten eines Maximalwerts die Anlage automatische stoppt und eine entsprechende Meldung absetzt.